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MOS管模型分類 NMOS的模型圖詳解

鉅大鋰電  |  點擊量:0  |  2020年02月11日  

MOS管常需要偏置在弱反型區和中反型區,就是未來在相同的偏置電流下獲得更高的增益。目前流行的MOS管模型大致可分為兩類,本文將詳解MOS管模型的類型和NMOS的模型圖。


說到MOS管的模型,大家應該并不陌生。針對不同的應用和需求,我們要選取相應合適的模型。比如在數字電路中,通常使用簡單的開關模型或電阻-電容(RC)模型。而在模擬電路中,需要適用于不同偏置條件,不同頻率的模型,對于亞微米器件,還要考慮溝道長度調制、速度飽和等短溝道效應。在仿真軟件中采用的,主要是加州大學伯克利分校的一個研究小組發明的BSIM(BerkeleyShort-channelIGFETModel)模型。在IC設計中,第一步往往是手算(handcalculaTIon),而BSIM模型有上百個參數,因而我們再手算時往往會采用簡化的模型,其中大家最熟悉的莫過于平方率模型。但平方率模型有兩個主要的局限之處,一是難以包括諸多短溝道效應,二是只適用于MOS管偏置在強反型區(stronginversion)時的情況。在很多電路中,為了在相同的偏置電流下獲得更高的增益,或者在相同增益下減小功耗,MOS管常需要偏置在弱反型區和中反型區。因而,我們需要一個在強反型區(stronginversion)、中間反型區(moderateinversion)和弱反型區(weakinversion)連續準確,且能很好包含各種短溝道效應,有方便手算的模型。


目前流行的MOS管模型大致可分為兩類,一類是基于閾值電壓(ThresholdVoltage-based)的模型,典型的代表為BSIM3和BSIM4,大家可以參閱Razavi的課本。它的一個典型特征就是閾值電壓是Vsb的函數,以此來刻畫體效應。這一類模型在深亞微米工藝下有較大的局限性。另一類基于電荷(Charge-based)的模型,其代表為BSIM6和EKV模型。BSIM6模型是現在仿真工具中的CMOS工藝的標準模型(2013年發布)。而Abidi教授在課堂上講述的EKV模型,能夠在手算過程中提供很多設計指導。(EKV,由其三位發明者Enz,Krummenacher,Vittoz的名字首字母命名)。


如下圖所示是一個NMOS的模型圖。MOS管是四端器件,包括源端(S)、漏端(D)、柵端(G)和襯底(B)。在標準CMOS工藝中,所有MOS管共用一個p型襯底,為了防止pN結正偏,p型襯底一般接GND。Vs、VD、VG均相對于襯底電壓定義。源極和漏極完全對稱,逐漸增加柵極電壓,在器件表面會出現反型層,對于NMOS來說,反型層由電子組成。反型層非常薄,其厚度可以近似忽略不計(Charge-SheetApproximaTIon),因而在分析中我們采用簡單的一維模型。在圖中以源極為原點,由源極引向漏極畫出x軸。



如下圖所示,我們將坐標為x處反型層的面電荷密度記為Qinv’(x),該處的溝道電壓(相對于襯底)記為Vch(x),



柵極、反型層和夾在中間的柵氧化層可以看出一個平行板電容器,則反型層面電荷密度與兩極板間的電壓的關系如下:



下面我們定義兩個重要的概念:夾斷電壓(Vp,pinch-offvoltage)和閾值電壓(Vt0,thresholdvoltage)。在下圖中,源極和漏極保持等電位,這樣整個溝道的電勢相同。如果固定VG,當溝道電壓增加至Vp時,反型層電荷密度減為0;如果固定溝道電壓為0V,當VG減為Vt0時,反型層電荷密度減為0。這里的閾值電壓Vt0是定義在整個溝道等電位且電位為0的條件下,因而是一個定值,與之形成對比,傳統模型中的閾值電壓VTH是Vsb的函數。另外值得注意的是,夾斷電壓Vp的定義不只在源極漏極等電位使才有效,只要溝道中某一點的電壓Vch(x)大于Vp,在該點處溝道就會被夾斷。



夾斷電壓和柵極電壓的關系如下圖所示,這種非線性是由反型層下方的勢壘電容Cdep的非線性造成的(在介紹MOS管電容模型時我們會詳細闡述)。為了簡化模型,通常用一條斜率為1/n的直線來近似,即Vp=(VG-Vt0)/n。在之后的計算中我們采用n=1.5。注意:有的時候Vp與VG-Vt0的非線性關系會導致大信號偏置電路無法工作,具體地說,就是我們會推出n既大于1,又小于1,說明聯立不等式無解。這個例子我們會在之后介紹偏置電路的時候舉一個例子。



根據以上的近似,可以畫出Qinv’和Vch的關系。當Vch=Vp時,溝道被夾斷,電荷密度為0;當Vch=0時,Qinv’=Cox’*(VGVt0)。細心的童鞋們可能已經注意到,下圖的關系式與之前所列的平行班電容器的公式略有偏差,原因就是之前的公式是在忽略勢壘電容Cdep的效應,或者說在n=1的條件下推出的。



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